电子行业用水系统解决方案

 多晶硅清洗用超纯水系统解决方


  多晶硅清洗用超纯水处理设备关键技术EDI技术与反渗透技术的有机结合,达到连续除盐、运行维护简单、无酸碱排放污染。多晶硅片,半导体器件等清洗过程中所需的纯水需要符合国家《电子级水质标准》18.2兆欧以上,目前最有效的制水工艺就是预处理加反渗透加EDI技术工艺。超纯水处理设备已被多晶硅清洗行业广泛应用。


  TOC触摸屏行业用超纯水系统解决方案

  随着苹果iPhone的发布,触摸屏产业再次让世人瞩目。 针对目前平板显示行业触模屏技术迅速升级换代的趋势,尤其在电容屏技术及应用领域越来越广泛的背景下,触摸屏手机也空前的热销,在触摸屏的清洗对水质的要求非常高,EDI超纯水设备也因此得以在触摸屏行业被大量的使用。触摸屏清洗用超纯水出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm)、 我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。 触摸屏行业要用到EDI超纯水设备。

  

  典型工艺:

  触摸屏生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗产品,水质的好坏与触摸屏的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型触摸屏特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使触摸屏上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒(包括细菌)如吸附在触摸屏表面,就会引起产品特性变差。

  超纯水在电子工业主要是触摸屏,线路板、电子元器件生产中的重要作用日益突出,超纯水水质已成为影响触摸屏,线路板、电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一,水质要求也越来越高。在触摸屏电子元器件生产中,超纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料,不同的触摸屏幕电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。

  上海创洋水处理生产的纯水设备在触摸屏行业应用十分广泛,主要结合双级RO与EDI,配合合适的终端处理系统(polishing、TOC、UV、UF)等达到微粒、有机碳、电阻率、二氧化硅满足工艺要求。

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