半导体工业用纯水指标及制水技术优势
公司动态 | 水处理知识 | 行业新闻 | 成交项目喜报 |

半导体工业用纯水指标及制水技术优势

发布日期:2020-11-30 浏览次数:1814

在工业生产过程中通常需要采用超纯水用于器件的清洗,提高产品的质量,超纯水一般采用应用反渗透+EDI技术的工业高纯水设备制取而来,目前这种方法是适合用于制取超纯水的,根据行业的不同所需水质自然也就不同。

电子工业超纯水设备制水技术优势:

纯化水设备

电子半导体工业在生产过程中对与超纯水的需求量也非常大,采用反渗透+EDI技术制取半导体工业用水主要有如下优势:

1、无需酸碱再生:在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生,且需要安全储存酸碱的车间,再生时有大量有害废水和废弃物需处理,增加了环保和安全方面的工作困难。而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。

2、连续、简单的操作:在混床中由于每次再生和水质量的变化,使操作过程变得复杂,而EDI的产水过程是稳定的连续的,产水水质是恒定的,没有复杂的操作程序,操作大大简便化。

3、降低了安装的要求:EDI系统与相当处理水量的混床相比,有较不的体积,它采用积木式结构,可依据场地的高度和窨灵活地构造。模块化的设计,使EDI在生产工作时能方便维护。

半导体工业用纯水指标:

美国半导体工业用纯水指标

反渗透+EDI这种操作简便,无污染的半导体电子工业超纯水制备技术,已经被越来越多的人认可,目前也已经在众多电子工业厂家普及使用了。