随着经济的发展，科学技术不断提高，紫外线技术在半导体超纯水设备中也起到了重要的作用。下面小编简要为大家介绍紫外线技术在半导体超纯水设备中重要的作用：
1、灭菌
紫外线杀菌主要采用254纳米波长的紫外光。这种波长的紫外线，即使是小剂量的紫外线照射，也能破坏细胞生命的核心DNA，从而阻止细胞再生，丧失其再生能力，使细菌无害，从而达到杀菌效果。
2、臭氧消除
在半导体生产中，臭氧经常被用来消毒和净化水。然而，由于臭氧具有很强的氧化能力，水中残留的臭氧如果不去除，可能会影响半导体超纯水设备的下一道工序。
3、降低总有机碳
在许多高科技和实验室设备中，有机物阻碍高纯水的生产，从水中去除有机物有很多方法，更常用的方法包括使用活性炭和反渗透。
4、余氯降解
在半导体生产过程中，为了避免对产品产生不利影响，去除水中的残余氯往往是必要的预处理。
以上就是小编为大家介绍的全部内容，希望对您有帮助。
