半导体超纯水系统工艺介绍

半导体超纯水系统工艺介绍超纯水要求尽可能去除水中的离子DO(溶解氧)TOC(总有机碳)等杂质，使其成分无限趋近于100%的水分子，25℃时理论电阻率可达18.3Mcm]以应用于对水质纯度要求极高的场合。在半导体产品生产过程中，超纯水主要用于清洗各种产品，其水质对产品质量、性能会产生重大影响，稳定的超纯水系统成为半导体产线不可或缺的配套系统之一。

目前，在半导体行业得到广泛应用的超纯水制备技术主要有离子交换法和电去离子法(EDI)其中离子交换法主要通过离子交换树脂吸附水中的阴、阳离子，提高电阻率，同时配置去除DO、降解 TOC的装置，该工艺具有制备水量大、出水水质稳定、工艺成熟、运行稳定、操作难度低、运行成本低等优点。

离子交换法是超纯水系统常用的2种成熟工艺路线之一，已在电子、医药、化工等行业超纯水制备系统中得到广泛应用，也是最适合本项目需求的工艺路线。上海创洋将从设计和设备配置，各系统设备造价组成、主要设备造价组成3个方面分析了项目造价情况:设备是影响材料部分造价的主要因素，占比接近50%;半导体超纯水制备系统核心材料仍以进口为主抛光系统和MAKEUP系统设备是设备总造价的绝对主体，占比接近70%;TOC-UV、树脂、脱气膜价格昂贵，合计占设备总造价比例接近60%。本项目工艺设计、造价信息可供类似项目参考。